沒有多少人知道，由院長鄧光輝院士和所長錢富強研究員率領光源研究所的140多名研發人員，經過近3年的潛心研究，在1999年7月就掌握了浸沒式光刻系統技術，研發成功全球第一臺65nm制程工藝的浸沒式光刻機試驗機，避免刺激美國，秘而不宣，到去年6月17日才公開。

　　從1999年8月開始立項，BSEC投資1億元，鄧國輝和錢富強帶領光刻機光源研究所，靜下心來開始研發EUV的同時，在65nm制...