“157nm干式光刻機受到波長的限制，制程工藝只能達到75nm，不如BSEC浸潤式光刻機的65nm，而且在提高制程工藝方面的難度較大，難以滿足晶圓廠家對先進制程工藝的要求；157納米技術還有一個先天的困難，由于光波易被吸收，需要氟化鈣鏡頭，氟化鈣是一種新型鏡頭材料，制作難度大，每次結晶需要3個月時間，并且質量難以控制，價格高昂。我建議公司立即開始研發浸潤式光刻機，雖然同BSEC和GCA相...